Keramisches Ziel

Keramische Targets werden in einem Prozess namens Physical Vapor Deposition (PVD) verwendet, der bei der Herstellung verschiedener dünner Filme verwendet wird, einschl ießlich Halbleiter bauelementen, Solarzellen und optischen Beschichtungen. Keramische Targets bestehen aus Materialien wie Aluminium oxid, Titandioxid, Zirkon oxid und Silizium dioxid. Sie haben hohe Schmelzpunkte, niedrige Sputter raten und hohe Reinheit, was sie für die Verwendung in PVD-Prozessen beliebt macht. Keramische Sputter targets sind auch langlebig, chemisch stabil und widerstands fähig gegen Hitze und Verschleiß, was sie zu einer idealen Wahl für viele industrielle Anwendungen macht.

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